『ヨコハマトリエンナーレ2020』概要＆参加アーティスト65組発表

『ヨコハマトリエンナーレ2020「AFTERGLOW―光の破片をつかまえる」』の概要と参加アーティストが発表された。

7月3日から神奈川・横浜美術館、みなとみらい21中央地区48街区「プロット48」、日本郵船歴史博物館で開催される『ヨコハマトリエンナーレ2020「AFTERGLOW―光の破片をつかまえる」』。アーティスティックディレクターはインド・ニューデリーを拠点に活動するジーベシュ・バグチ、モニカ・ナルラ、シュッダブラタ・セーングプタによるRaqs Media Collectiveが務める。

『ヨコハマトリエンナーレ2020「AFTERGLOW―光の破片をつかまえる」』のオフィシャルサイトでは、Raqs Media Collectiveによる「『AFTERGLOW』というタイトルをめぐって」、木村絵理子による「展覧会という『茂み』について」、横浜トリエンナーレ組織委員会による「ラクス・メディア・コレクティヴのキュレーションと、ヨコハマトリエンナーレがめざすもの」といった記事が公開されている。

参加アーティストは65組。ハイグ・アイヴァジアン、ファラー・アル・カシミ、モレシン・アラヤリ、ロバート・アンドリュー、青野文昭、新井卓、コラクリット・アルナーノンチャイ、ローザ・バルバ、タイスィール・バトニジ、イシャム・ベラダ、ニック・ケイヴ、チェン・ズ、ジェシー・ダーリング、マックス・デ・エステバン、エヴァ・ファブレガス、マリアンヌ・ファーミ、アリア・ファリド、ファーミング・アーキテクツ、イヴァナ・フランケ、ラヒマ・ガンボ、ズザ・ゴリンスカ、アンドレアス・グライナー、インティ・ゲレロ、ニルバー・ギュレシ、ティナ・ハヴロック・スティーヴンス、ジョイス・ホー、インゲラ・イルマン、飯川雄大、飯山由貴、岩井優、岩間朝子、金氏徹平、川久保ジョイ、レボハング・ハンイェ、キム・ユンチョル、エレナ・ノックス、ラウ・ワイ、ラス・リグタス、Make or Break、タウス・マハチェヴァ、カベロ・マラッツィ、ナイーム・モハイエメン、ジェイムス・ナスミス、パク・チャンキョン、アモル・K・パティル、アリュアーイ・プリダン、レーヌカ・ラジーヴ、オスカー・サンティラン、サルカー・プロティック、佐藤雅晴、さとうりさ、レヌ・サヴァント、ツェリン・シェルパ、新宅加奈子、エリアス・シメ、レイヤン・タベット、竹村京、田村友一郎、デニス・タン、アントン・ヴィドクル、オメル・ワシム＆サーイラ・シェイク、ミシェル・ウォン、ランティアン・シィエ、ジャン・シュウ・ジャン、ジェン・ボーが名を連ねる。

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